技术编号：3764583
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。,沉积涂层的设备及制得的涂层的制作方法发明的领域本发明涉及涂层，尤其涉及含碳和/或硅涂料的涂层，并涉及用于等离子体沉积的设备。发明的背景等离子体法能使涂层十分坚硬，化学惰性，耐腐蚀并且隔绝水汽和氧气。在各种基片上这种涂层常作为机械和化学保护涂层。例如，将富碳涂层(如金刚石形的碳和喷射等离子体碳涂层)施涂在刚性的圆盘和挠性的磁性介质上。还可将其施涂在声音震动薄膜、用作光学和眼镜镜片的聚合物基片以及静电照相鼓上。已将含硅聚合物涂料施涂在聚合物和金属基片上用于抗...
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