技术编号：3765592
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，属于粉末涂料的制备领域。背景技术 美国专利5759746，Fabrication process using a multi-layer antireflective layer，报道了在半导体集成电路板上制备一种添加了纳米二氧化硅的组装防反射涂层技术，该技术主要是为防止一些半导体集成电路板比如半导体存储器、光刻技术中紫外线对电路板蚀刻性能的影响而设置的一种防护层；日本专利10-330937，Formation of substantial...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。