技术编号:3766096
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于芯片制造领域,具体是有关一种通过提高过滤网的面积来增大粉尘过滤功能的涂胶机。背景技术 在芯片制造过程中,为了刻蚀的需要,经常会在硅片上根据刻蚀的形状涂抹光刻胶,所以涂胶机是一种经常使用的设备。然而,在使用过程中,光刻胶会产生大量的光刻胶粉尘,需要用过滤网将其过滤。由于涂胶机的产能较高,随之而产生的光刻胶粉尘就比较多。在过滤网上的粉尘过多时其会自过滤网上脱落,如果落在硅片上,会极大影响硅片的品质。现有的粉尘过滤网形状如图1所示,其为涂胶机具有上杯盘...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。