技术编号：37705873
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本技术实施例涉及用于光子学的垂直光栅滤波器。背景技术、硅光子已快速变成主流技术，尤其在光子集成电路(pic)中。这些电路是基于绝缘体上硅(soi)平台以达成高速光学通信。技术实现思路、本实用新型的实施例涉及一种用于制造光子垂直光栅滤波器的方法，其包括：在衬底上的第一光学选路层中形成第一波导；在所述第一波导上方由第一电介质材料形成电介质层；在所述电介质层中蚀刻多组凹槽，各组凹槽具有一不同光栅周期；将一光栅材料沉积至所述多组凹槽中以形成脊，其中所述光栅材料具有高于所述电介质层的折射率，以获得多个...
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