技术编号：3774776
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于超细复合粉体的制备领域，特制单分散球形氧化铈/氧化硅包覆 型复合磨料的制备方法，及其在超精密抛光中的用途。 背景技术随着超大规模集成电路器件特征尺寸的减小和集成度的提高，要求作为衬底材料表面的粗糙度必须达到纳米级，这就对衬底材料的抛光质量提出了更高的要求。化学机械抛光(Chemical-mechanicalpolishing, CMP)是一种获得超光滑表面的重要加工手段，而且也几乎是唯一能够实现全面平坦化的技术。砷化镓(GaAs)是一种重要的m—...
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