技术编号：3785241
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种相变材料用机械抛光液，包括下列重量份数的物质表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，调节剂1-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，高岭土1-3份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，蒙脱土1-3份，硬脂酸2-3份，硬脂酸盐3-4份，过氧化苯甲酰1-2份，乙酸正丁酯2-3份，硬脂酰胺1-3份。本发明的抛光液性能稳定，抛光效果好，可满足制备纳电子相变存储器中工艺的需要。专利说明一种相变材料用机械抛光液[0001 ] 本发明涉...
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