技术编号：37892438
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及光学器件加工领域，尤其涉及一种波导侧壁角度的测量装置及其方法、存储介质。背景技术、硅光芯片加工通常采用刻蚀工艺，然而刻蚀工艺具有一些难以避免的缺陷，在一些情况中，刻蚀后存在波导侧壁与基底之间并不是成度垂直的情况，这会增加偏振相关损耗，限制了该器件在通信或传感设备中的性能表现。常用的波导芯层测量装置包括原子力显微镜、扫描电子显微镜、激光共聚焦显微镜。然而，原子力显微镜和扫描电子显微镜需要对芯片进行切割才能测量波导横截面，将对芯片造成破坏；激光共聚焦显微镜仅能进行单粒芯片测量，测量速...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。