技术编号：37926017
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于确定光学系统中的反射镜的姿态的方法。优先权申请de .的内容通过引用整体并入。背景技术、微光刻用于生产微结构部件，例如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻装置来执行微光刻工艺。借助于照明系统照射的掩模(掩模版)的像在此借助于投射系统投射到基板(例如硅晶片)上，该基板涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)并且布置在投射系统的像平面中，以便将掩模结构转印到基板的光敏涂层。、受集成电路生产中对更小结构的需求的驱动，目前正在开发使用波长在.nm至...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。