技术编号：37980830
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及曝光设备领域，具体涉及一种快速检测曝光设备输出变化的光罩以及检测方法。背景技术、按照曝光区域可以把晶圆表面分成若干大小相同的矩形区域的网格，每一个网格内的区域被称为一个单元(cell)，每一个cell里有一个曝光区域(shot)，曝光区域的面积比cell略小一点，每一个曝光区域内会光刻多个芯片纹路(die，也可以成为半导体导线回路)，每个die之间由通道间隔开。、在半导体制造工艺中，特别是在半导体生产现场处理曝光设备的过程中，为了避免发生不良，一直都在采取相应的措施。、光刻工艺中...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。