一种存储器抗腐蚀抛光液的制作方法技术资料下载

技术编号:3799299

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本发明公开了一种存储器抗腐蚀抛光液,其特征在于,包括下列重量份数的物质烷基芳基磺酸钠7-16份,磷酸三钠9-11份,氯化铝5-8份,氯化钾9-13份,双酚A型聚碳酸酯14-23份,苯甲酸甲酯8-14份,聚乙烯醇11-14份,酒石酸5-7份,氯化钠6-13份,锌粉7-14份,氧化铅1-2份,羟乙基纤维素2-6份,氯化钙3-7份,助溶剂1-3份,润湿剂2-5份,十二烷基苯磺酸钠1-2份。本发明的抛光液性能稳定,抛光效果好,可满足制备纳电子相变存储器中工艺的需要...
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