技术编号：3802408
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种用于制备纳米功能薄膜的设备，尤其涉及一种纳米薄膜成形机。背景技术纳米功能薄膜是材料研究前沿领域的热点之一，纳米功能薄膜广泛用于高，特别是军事。目前，纳米薄膜大多采用CVD(化学气相沉积)、PCVD(物理化学气相沉积)、MOCVD(金属有机物化学气相沉积)、脉冲激光沉积(PLD)、磁控溅射、溶胶-凝胶(Sol-Gel)法等方法制备。前五种方法的生产率很低，所用设备昂贵，生产成本高。因而高速纳米薄膜成形机具有广阔的应用前景。溶胶-凝胶法生产率...
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