包括嵌装的真空通路的、借助等离子体的容器处理机的制作方法技术资料下载

技术编号:3805385

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本发明涉及容器的生产,在所述过程中,为其内壁覆盖含有隔离性材料的一涂层。背景技术已知通过活化等离子气相沉积法(PECVD Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition等离子增强化学气相沉积)施加隔离性材料层。通常使用配备多个处理单元的一处理机,其各包括一电磁波发生器、连接在发生器上且以一导电材料(通常是金属)实现的一空腔,以及设置在一空腔内,以能穿透来自发生器电磁波的一材料(通常是石英)实现的一容腔。在把容器(通常以例如...
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