技术编号：3805413
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包含硅氧烷聚合物的吸光性抗反射涂料组合物，和使用该抗反射涂料组合物形成图像的方法。该方法尤其可用于使用在远和极远紫外线(UV)区域中的辐射将光刻胶成像。本发明进一步涉及吸光性硅氧烷聚合物。背景技术光刻胶组合物在微光刻法中用于制备小型化电子部件，例如用于制备电脑芯片和集成电路。通常，在这些方法中，首先在用于制备集成电路的基底材料如硅晶片上施加光刻胶组合物的薄膜涂层。然后将底上。涂在基底上的光刻胶接着依图像暴露在辐射下。辐射暴露造成涂布表面的曝光区域...
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