技术编号：3807386
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光电子材料。 背景技术在工业和医学诊断中，用X射线影像存储材料制成的存储屏的X射线照相技术越来越受到人们的重视。人们对这类材料进行了大量的研究，如BaFXEu2+ (X=C1， Br， I) ， Eu2+ (或Ga+)掺杂的碱金属卤化物，BaLiF3Eu2+， 稀土离子掺杂的玻璃陶瓷等。其中，BaFBrEu2+被认为是最有效的光激励发 光(PSL)材料，其PSL相应范围为 500—600nm。因此可以用氩离子激光 器(514nm)、 YAG ...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。