技术编号:39923706
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及多孔材料的基于化学的d建模,并且更具体地,涉及建模的微结构的成像。背景技术、分析多孔材料的原始和典型工作流程始于使用实验显微镜d成像技术,如micro-ct(微米计算机断层扫描)和fib-sem(聚焦离子束扫描电子显微镜)。这些实验d图像用于重建待分析材料的d结构。然而,这种基于图像的工作流程不适用于无可获得实验数据的任何材料,例如新设计的材料、不存在的和虚拟设计的材料,以及纳米孔低于典型实验测量限值的多孔材料。虽然基于晶格玻尔兹曼方法(lbm)的应用已经用于通过粗粒化模拟方...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
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