技术编号：4339454
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及所谓一列式的真空处理装置，尤其涉及适用于一边长为Im以上的大 型基板且改良基板的搬送系统而实现省空间化、低费用化的真空处理装置。背景技术例如，在加工用于等离子显示器或者液晶显示器的大型玻璃基板时，需要在真空 条件下进行升温到规定温度的加热工序、采用溅射、CVD(Chemical Vapor Deposition)等 成膜工序、或者蚀刻等加工工序等而实现多层成膜的各种成膜工序。以下，除了这些在真空下的成膜工序之外、还将该成膜工序附带的加热工序等在 ...
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