技术编号：4340694
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体元器件的制造技术，尤其是指一种延长光刻胶溶剂的存储期限的方法和一种延长光刻胶溶剂的存储期限的装置。背景技术在半导体器件的制造过程中，光刻工艺已经成为整个半导体制造工艺中十分重要的技术之一。通过光刻工艺可以实现掩膜图形向实际器件图形的转移，从而在晶圆衬底上制作出极细微尺寸的电路结构图案，因此，光刻工艺的质量将直接左右最终形成的半导体器件的产品质量。在上述的光刻工艺中，一般需要将光刻胶旋涂在晶圆衬底上，然后通过曝光、显影(Development...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。