衬底传送容器的制作方法技术资料下载

技术编号:4390979

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本发明涉及操作衬底传送容器的结构、能力和方法,其中该衬底传送容器适于在高度洁净的环境中储存或传送物体,如半导体晶片、光掩模或硬盘。背景技术 随着半导体器件的图形尺寸变得更精细,将来需要预先考虑甚至更高的洁净度。例如,应该预先考虑可能引起图形缺陷和布线短路的颗粒状污染物的目标控制尺寸小于0.1μm。此外,除了颗粒状污染物之外,必须减少气体污染物。通过吸收到半导体晶片上,各种碳氢化合物分子引起栅极氧化物膜的绝缘击穿电压下降或淀积膜中的厚度变化,并且碱性气体与化...
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