技术编号：4414445
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，特别涉及能稳定地连续成形树脂制的柔性模具的。背景技术以往，已知纳米压印法，该方法是使用表面形成有纳米级的微细凹凸结构的模具，将该微细凹凸结构转印至抗蚀层或树脂。该纳米压印法与采用光刻和蚀刻的现有的制法相t匕，加工时间更短，微细凹凸结构的形成所需的装置成本和材料成本更少，生产性也更佳，因此近年来受到关注。此外，采用光刻和蚀刻的制法一般适合用于以硅晶片、石英基板等坚硬的(即刚性的)基板作为基材的单晶片处理工艺(枚葉7 π ★ 7 )，与之相对，纳米...
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