技术编号：4414482
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微细凹凸结构的形成中所使用的微细结构积层体及使用该微细结构积层体制作微细结构积层体的方法。背景技术以往，LSI制造中的微细图像加工技术，多使用光刻技术。但是，光刻技术中，存在着对在曝光中所使用的光的波长以下的图像，难以加工的问题。作为其他的微细图像加工技术，有使用电子束描画装置的掩模图像描画技术(EB法)。但是，因为EB法是通过电子束直接描画掩模图像，所以描画图像越多，描画时间越长，存在着一直到图像形成之前生产力大幅下降的问题。此外，根据高精度控...
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