技术编号：4439434
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种，属于材料工程。背景技术 磨损是影响微型机电系统及磁存储系统长期稳定运行的重要因素，研制一种可实用的薄膜是解决这一问题的重要途径。目前，业界对此问题的解决方案主要集中在对分子自组装薄膜、LB(Langmuir——Blodgett)膜以及这两种薄膜的复合研究上，而这两种薄膜的耐磨性比较差，所以研制一种具有良好耐磨性能的分子薄膜具有非常重要的实用意义。90年代以来，有人以分子沉积的方法制备了多种复合膜，也曾用于摩擦学方面的研究，但由于耐磨性较差...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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