技术编号：4439449
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。更为详细地，涉及适于制造实施 了能够获得低反射率的表面处理的树脂片的。背景技术将刻入有纳米尺寸(0. 001 1 μ m)的凹凸(下面，亦称为“纳米构造体”。)的模 具按在涂抹在基板上的树脂材料上来转印形状的技术、所谓的纳米压印技术近几年受到关 注，正在进行目标是应用于光学材料、IC的细微化、临床检查基板等的研究。该技术是在光 盘制作中广为人知的热压花技术的延伸，1995年由S. Y. Chue等人证明能够应用于到IOnm 水平为止。在以往利用...
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