技术编号:4498505
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体工艺中的高温炉装置领域,特别涉及一种高温炉尾气处理装置。背景技术硅片制造的很多工艺如热生长氧化物、离子注入后硅片表面的热退火、淀积膜、玻璃体回流及硅化物膜的形成等等均需要使用到高温炉设备。由于这些工艺与温度有密切关系,这就使高温炉在IC制造中成为非常关键的因素。高温炉通常包括工艺腔、硅片传输系统、气体分配系统、尾气处理装置及温控系统。工艺腔是对硅片进行加热的装置,硅片传输系统实现在工艺腔中装卸硅片,气体分配系统则通过将正确的气流传送到工艺腔...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。