技术编号:4521934
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种清洁装置,且特别涉及一种减少气体中废气量的清洁装置。半导体工艺中会产生大量含有废气的气体,在排放到大气以前必须先将里面的废气含量减少。废气通常会在半导体的制作过程中产生,废气比如氟碳化台物或PFC等会在装设于排气泵之后的一个清洁工具中进行处理。在下列的叙述中会以氟碳化合物作为一个废气的范例,因为氟碳化合物在半导体工艺中最常用到。请参照附图说明图1,是公知的一种清洁装置。在图1中,包括氟碳化合物气体的废气会被该请洁装置10处理。氟碳化合物气体会...
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