技术编号:4622550
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在作业领域中形成清洁空气空间的局部洁净区形成装置。背景技术近年来,在IC芯片的制造等半导体制造、平板显示器等的液晶部件制造、手机、数码相机等光学部件制造等为首的闻功能化的精密机器的制造现场,或者化学、医药品等处理制造、检查、研究等现场中,由于尘埃、环境微生物等的混入会对制品的品质、研究结果产生很大影响,因此,对这些现场的作业空间的净化的要求在扩大。对于这样的要求,一般是仅对必须进行净化的一部分的作业空间进行局部性净 化的方式,作为这样的代表性的洁...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。