技术编号:4636448
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度 均匀结构装置,为日用瓷窑炉。 背景技术日用瓷气烧还原焰隧道窑为满足陶瓷制品在烧结过程中的物理化学变 化的需要, 一般将窑炉划分为三个区氧化排烟区,还原高火保温区和急冷 缓冷区。在氧化排烟区设置有一定数量的烧咀,用于满足陶瓷制品氧化时所 必需的氧化气氛和对应的温度。但是,现有的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构通常就是 烧咀砖的结构。这种结构的燃烧室的弊端在于1、 易导致低温区的火焰"钢性...
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