技术编号:4694901
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及干燥要求高清洁度的衬底的设备和方法。背景技术 在某些工业中,必需使用使物体达到特别高清洁度的工艺。例如在集成电路制造期间在多个步骤中对半导体衬底进行清洁、清洗和干燥以从衬底除去化学物、残留物和微粒。集成电路制造技术已发展到其上的细微图形可为90nm和更小的尺寸。随着器件尺寸的减小,在清洁和干燥衬底期间留下的水印甚至可导致在集成电路器件中所谓的“致命缺陷”。本发明描述了一种新的、高效用于清洁衬底的系统和方法从而使衬底上沉积的微粒和水印最小。附图...
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