技术编号:4698508
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体加工设备,尤其涉及一种用于半导体加工的掺杂工艺的带 喷淋管的扩散炉。背景技术扩散炉是一种半导体加工工艺设备,主要用于掺杂工艺。特别在晶体硅太阳能电 池生产中,扩散炉是唯一的掺杂设备,也是制造工艺中对PN结的生成、转换效率的提高起 决定性的关键设备。半导体加工中的扩散工艺,其要求反应管内气流稳定,气场分布均勻。 但是传统的扩散炉,由于没有实施喷淋扩散技术,在工艺气体进入石英管内后,气体会产生 层流,导致流场密度分布不够均勻,均勻性仅为5%...
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