技术编号:4752718
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明通过硬件设计实现对温度的控制,通过自适应算法模型对卤素灯管进行功 率控制,来提高硅晶片的温度均勻性和快速闪光退火炉的工作效率,满足集成电路制造技 术对半导体工艺设备的飞速发展,快速闪光退火炉是半导体行业的工艺设备,该发明属于 半导体器件制造领域。背景技术随着半导体技术从130nm到90nm以下工艺的微缩,每个芯片上集成的逻辑器件也 越来越多,作为离子掺杂的离子注入机的工艺步骤也越来越多,掺完杂后需要用快速退火 系统快速退火,要求退火效率45 70片/...
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