技术编号:4794395
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明应用于真空及CCD制冷,具体涉及一种利用TEC制冷器给分子筛制冷来提升和维持真空腔体真空度的方法。背景技术天文用CXD 为了提高成像信号的信噪比,抑制由CXD电路产生的热噪声和暗电流,工作时通常制冷至低于-50° C,有些型号C⑶甚至要求工作温度低于-80° C。在设计CXD系统时,根据CCD温度特性,通常将CCD放置在真空杜瓦中,使用液氮、TEC制冷器或者制冷机等进行深度制冷。为了提高制冷效率,防止气体对流导致的热交换,CCD杜瓦要保持较高的真空度...
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