技术编号:4842027
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于半导体、液晶显示器(LCD)等相关工业制程排放废水,甚至其它事业所产生的含有机污染物的废水的有机物的氧化去除,是关于一种借助注入臭氧及经紫外光照射的废水中有机物氧化去除流程与装置。背景技术 台湾地区由于特殊的地理环境,蓄水量不足,水资源开发不易,而各种行业的用水量却逐年增加,尤其随着半导体产能的扩充,需水量更是倍数成长,使得台湾地区的科学园区内的厂商面临严重的缺水及限制水压力,加上开发新水源开发不易,使得水资源失调成为显见的问题。目前新竹科学园...
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