技术编号:4886095
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的内容是在用臭氧化水进行清洁和表面处理时,即使使用地点所用臭氧化水数量有所变化时,仍能供应臭氧化水而保持臭氧浓度恒定不变的方法。具体而言,当臭氧化水用于制造半导体方法中的操作时(例如自基片上剥除抗蚀剂以处理基片或移除抗蚀剂后清洁基片并进行表面处理、清洁及消毒普通树脂和金属的操作),本发明是依照使用地点所用臭氧化水数量的起伏波动来制造和供应臭氧化水,更具体一点讲,本发明涉及一种供应臭氧化水的方法,该臭氧化水是在处理半导体基片和液晶基片时用以移除抗蚀剂碎...
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