技术编号:4889541
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体光催化反应,特别涉及连续光催化净化含有机污染物废水及饮用水的方法及设备。近年来,半导体光催化剂及其应用基础领域的研究取得了很大进展,许多半导体材料如二氧化钛、二氧化锡、三氧化钨、氧化锌、硫化镉等被发现在光照情况下能够产生电子—空穴对,进而产生·OH和·OOH自由基。空穴及上述两种自由基具有超强的氧化能力,几乎能将大部分的有机物氧化降解并矿化为水和二氧化碳,并能有效地杀死细菌。半导体材料中尤其是二氧化钛,作为水相和气相有机污染物处理材料及灭菌...
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