技术编号:4901784
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及ー种废气的处理系统和处理方法,尤其涉及一种同时脱除四氟化碳和氮氧化物的系统和方法。背景技术四氟化碳(CF4)是全氟碳化物(简称PFCs)中最稳定的ー种气体,由于其在大气中具有较长的存在年限和強烈的红外吸收能力,可引发强烈的温室效应。CF4废气主要产生于半导体エ业,控制其排放在过去的三十年间在全球范围内引起強烈的关注。近几年来,随着我国半导体エ业的快速发展,CF4排放量逐年増加。国内相关资料显示,我国在CF4削減技术研究方面尚未起步,这将制约我...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。