技术编号:4905288
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种过滤器装置,用于例如在半导体制造过程和液晶制造过程配置的、将排放气体中含有的反应生成物等微粒去除或将液体中含有的雾沫进行回收。现有技术在半导体制造过程中,采用包含离子注入法、铝等金属的蚀刻法,CVD法的各种方式,但无论在采用哪种方式的半导体制造过程中,都生成混有氢氟酸、硅烷气体、四乙氧基硅烷、氨等有害气体和反应生成物等杂质、其他雾沫和灰尘等微粒的排气气体。众所周知,特别是在CVD法的半导体制造过程中,混合在排气气体中的微粒的数量多。为此,在半...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。