技术编号:4905289
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种从废气流中去除不想要的成份的方法,所述成份如氟、硅烷、气态氟化物、酸性气体和气态氯化物,更具体地说在制造半导体的过程中利用湿式洗涤设备和方法除去上述类型的不想要的成份。背景技术 关于使用湿式洗气方法净化去除半导体排出气,各种用途都需要除去氢化物气体、酸性气体及夹带的固体。尤其是在使用或制造SiH4(硅烷)、NH3(氨气)、F2(氟气)、HF(氟化氢)、SiF4(四氟化硅)、或COF2(碳酰氟)、如某种CVD(化学汽相沉积)方法时更是如此。在这...
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