技术编号:4919838
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在反应容器内,设有处理用空间。在反应容器的下端部,设有一个气体导入口。在一个气体导入口,安装有分散板。在反应容器的下部侧面,设有另一个气体导入口。在反应容器内的分散板上,容纳作为被处理物的粉体。分散板构成为气体能够通过且粉体不能通过。氮气从一个气体导入口通过分散板而导入处理用空间,并且,处理用气体从另一气体导入口不通过分散板就导入处理用空间。专利说明[0001]本发明涉及进行粉体的处理的。背景技术[0002]一直以来,使用氟气等处理用气体来进行粉体的处理。...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。