技术编号:4920082
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供用于处理气流(22)的设备。等离子体消除装置(10)具有反应腔室(14)和等离子体焰炬(12),等离子体焰炬(12)用于生成等离子体流以喷射到腔室内用于处理气流。第一入口(18)输送气流到等离子体消除装置内以进行处理;并且第二入口(20)在设备的正常条件下与试剂源流动连通用来将试剂(24)输送到等离子体装置内来改进处理的效率。在设备的备份条件下,第二入口与气流源流动连通以将气流输送到装置内进行处理。专利说明用于处理气流的设备[0001]本发明涉及...
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