技术编号:4925627
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种新型的纳米改性渗透蒸发膜的制备方法。该方法通过调节合成膜萃取材料过程中所需的极性和非极性原料的比例,并在制备过程中加入纳米SiO2,经纳米SiO2改性后光固化膜在吸附性能上有所改进。此外,引入可紫外光固化基团,所制得的膜材料具有UV光固化胶的特性,用于制备选择性渗透蒸发膜。利用浓度较低的氢氟酸处理膜,则可以利用氢氟酸对SiO2的腐蚀性在膜表面生成适当的孔隙。该法采用选择性可调的膜萃取材料合成方法结合快速成膜的紫外光固化技术,所制得的渗透蒸发膜...
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