技术编号:4990796
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于Western印迹的膜及其制备方法,所述膜所具有的三维开放式孔结构的平均孔径为0. 1 μ m至1. 0 μ m以及其厚度为30 μ m至200 μ m,其中该用于^festern 印迹的膜通过使由电纺丝而获得的平均纤维直径为50nm至IOOOnm的纳米纤维经过热板压延过程而制备。背景技术目前常用的用于Western印迹的膜包括由硝化纤维(NC)、尼龙或聚偏1,1_二氟乙烯(下文称为“PVdF”)聚合物制成的多孔膜。特别地,基于PVdF的膜主...
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