一种制备单层二氧化钛多孔阵列的方法技术资料下载

技术编号:4992522

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本发明属于纳米材料领域,特别涉及。 背景技术在众多的半导体氧化物催化材料中,T^2半导体材料因其化学性质稳定、耐光腐蚀,加之无毒,成本低,一直受到世界各国科学家的竞相研究和产业界的广泛关注,成为化学化工、材料和环境科学等领域的研究热点。最近几年,关于将TiO2运用到自清洁玻璃的生产与研究引起了国内外的广泛关注。目前在产业界主流的制备自清洁玻璃的方法为通过磁控溅射法或提拉法等方法在玻璃表面涂上一层致密的TiA薄膜,但是这些方法制备出的TiA薄膜存在光催化效率...
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