技术编号:4993555
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于排出预定量液体比如化学液体的化学液体供应设备,例如一种,它们适用于在半导体晶片的表面上涂敷光致抗蚀液体(photoresist liquid)。背景技术 在各的每一制造工艺中,比如半导体晶片制造技术、液晶显示器制造技术、磁盘制造技术和多层印刷电路板制造技术,已经使用了化学液体,比如,光致抗蚀液、旋压(spin-on)玻璃液、聚酰亚胺树脂液、纯水、显影剂、蚀刻剂、清洗液或有机溶剂,并使用化学液体供应设备涂敷这些化学液体。例如,已经研制出美国...
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