技术编号:4995441
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于材料制备,涉及一种光催化材料的制备方法,具体涉及。背景技术自从20世纪70年代初日本科学家Fujishima和Honda发现TW2电极上的光电解水产氢现象后,光催化制氢的研究引起人们的广泛关注。而目前光催化制氢主要存在两方面的问题,一方面是具有与太阳光谱较为匹配能隙的半导体如(wo3、CdS)等存在光腐蚀及有毒等问题,而P-型hp、GaP, GaInP2等虽具有理想的能隙,且一定程度上抗光腐蚀,因其能级与光解水能级不匹配,需施以偏压才可实现光解水...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。