技术编号:4999815
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种氮气保护下的低温反应釜,主要用于化工和液晶合成领域。 背景技术在进行液晶合成和化工领域的生产制备过程中,有些化学反应的条件需要-80°C 至-100°c的范围下进行,同时有些化学反应对空气中的氧气和水蒸汽比较敏感,需要一个无氧干燥的反应条件,反应的物料一旦在反应过程中接触到了氧气和水,就会出现其它的副产品,影响产品的质量和收率。现有的反应釜制冷方式一般由制冷机组降温制冷剂,然后将制冷剂送入反应釜夹套内与釜内反应物质进行热交换,到达合适的反...
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