技术编号:5000236
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种将液体蒸发并吸收,制备超净高纯试剂的装置。背景技术 超净高纯试剂(国外常称为湿化学品wet chemicals或工艺化学品process-chemicals),是集成电路(IC)和超大规模(VLSI)制作过程中关键性基础化工材料之一,主要用于芯片的精洗和腐蚀,具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短、强腐蚀性等特点。在IC和VLSI制作过程中,使用试剂的工序主要是清洗(包括干燥)、光刻、蚀刻。随着IC存储容量的逐渐增大,存储器电池的蓄电量...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。