技术编号:5000394
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种。 背景技术超净高纯试剂是超大规模集成电路(IC)制作过程中的关键性基础化工材料之 一,它的纯度和洁净度集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。阴离子 的浓度也是评价高纯试剂优劣的重要指标。中国自“六五计划”开始至“八五计划”,将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科 技攻关计划,并由某研究所承担攻关任务。目前为止,该所已相继推出了 BV-I级、BV-II级 和BV-III级超净高纯试剂,其中BV-III级超净高纯试剂达到国际SEM...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。