技术编号：5012073
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种。目前，卤化氢气体或液体以高纯无水组合物的形式使用。无水卤化氢通常用于半导体工业，如清洗反应器管和接受器(susceptors)，以及作为生产微电路的蚀刻剂。在这些应用中，要求在引入最终使用环境之前从如氯化氢的卤化氢中高效地除去蒸汽或液态水分。氯化氢通常是气体，有时以液体的形式加压输送。氯化氢在615 pisg下变为液体。含水氯化氢是强腐蚀性的，因此，需要频繁更换与之接触的管线、管道、阀门等。在清洗接受器时，即清洗所加工晶片的支承结构时，在氯...
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