技术编号:5014415
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及气体反应装置及半导体处理装置,更具体地说,涉及具有用于使液体原料气化,生成反应气体或处理气体的气化部的这种装置。在这里,所谓半导体处理指的是通过在半导体基板或LCD(液晶显示)或FPD(平板显示)用的玻璃基板等的被处理基板上以规定图形形成半导体层、绝缘层、导电层等,用于在被处理基板上制造半导体器件或包含与半导体器件连接的配线、电极等的构造物而实施的种种处理。背景技术 通常,在半导体生产线或液晶显示体生产线等使用把原料气体导入反应室内进行种种处理的...
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