技术编号:5014688
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及气体净化领域。更具体地,本发明涉及高度净化的腐蚀性气体的制备。背景技术 许多腐蚀性气体的高度净化形式的应用令人感兴趣。例如,高度净化的氯(Cl2)适用于半导体和纤维光学元件的制造。而且,溴化氢(HBr)和氯化氢(HCl)的高度净化形式适用于其它应用。商品级的氯(纯度不超过约99.0%)最通常由NaCl的水相电解制备,该水相电解产生了被水蒸汽、NaOH和NaCl饱和的Cl2。商品级氯中存在的其它杂质包括空气、CO2、氯化烃、COCl2和HCl...
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