技术编号:5015254
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用已加热到约650℃的高硅-铝比率的沸石纯化剂从气体(特别是酸性气体)去除水分的方法。本发明也涉及制备脱羟基沸石的方法。因为许多原因,在用于半导体生产的酸性气体中水的污染是特别不利的。在酸性气体如氯化氢(HCl)和溴化氢(HBr)中即使有痕量的水分也会导致用于处理半导体生产的这些气体的管道、阀门和流量计的腐蚀。在这些气体中水分的存在也可引起存贮这些气体的钢瓶壁的腐蚀。这种腐蚀导致金属颗粒污染物的产生,它们在半导体装置生产时可混入其中。此外,在半...
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